
Alvo revestido com tântalo
Tantalum coated target is a material made of high-purity tantalum metal or tantalum alloy, mainly used in various thin film deposition processes. Tantalum coated targets have excellent corrosion resistance, high melting point, and biocompatibility, and are widely used in various high-tech fields such as electronics, semiconductors, anti-corrosion coatings, and medical Equipamento .
Descrição
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. is located in the High tech Development Zone of Baoji City, Shaanxi Province. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, niobium, hafnium, tantalum tungsten alloy, niobium hafnium alloy c103, as well as deep processed products such as ships, crucibles, sputtering targets, coating targets, machined parts, high-temperature furnace insulation screens, heating elements, furnace bodies (heating furnaces, annealing furnaces), and corrosion-resistant equipment.
O processo de preparação dos alvos revestidos com tântalo inclui as seguintes etapas principais

Processo de preparação
Raw material preparation: High purity tantalum powder (purity>=99.95%) is melted by electron beam melting (EBM) or formed by powder metallurgy. The EBM method can remove low boiling point impurities, reduce oxygen content to below 50ppm, and refine grain size to 20-50 μ m.
Processamento de plástico: incluindo forjamento, laminação e tratamento térmico . A forjamento direcional multi-direcional é realizado em 1100-1250 grau, e a tecnologia de rolagem quente (600-800}) é usada para rolar o estresse ., é realizado por meio de um vastão »., é realizado um realizado por vacu), que . é realizado, se fortalecendo» {3}. é realizado por meio de um vastão «
Processo de preparação
Usinagem de precisão: o espaço em branco é usinado no tamanho do alvo usando uma máquina de torno/moagem CNC, com uma rugosidade da superfície RA<0.4 μ m and a flatness error ≤ 0.02mm/100mm.
Tecnologia de ligação: a soldagem ou a brasagem de difusão é usada para unir o alvo do tântalo com a placa de apoio de cobre, garantindo a eficiência da dissipação de calor durante o processo de pulverização

Os alvos revestidos com Tantalum têm as seguintes características:
Alto ponto de fusão e excelente resistência à corrosão: os alvos revestidos com tântalo têm um ponto de fusão de até 3017 graus C e um ponto de ebulição de 5458 graus C, exibindo excelente resistência à corrosão e não reagindo com a Aqua regia à temperatura ambiente .
Estabilidade de alta temperatura: capaz de manter uma força de mais de 400MPa a 500 graus C, adequada para a pulverização de alta potência .
Energia superficial de adsorção de baixo gás: a energia da superfície é tão baixa quanto 0 . 8 J/m ², suprimindo efetivamente a adsorção de gás AR e melhorando a taxa de deposição de filmes.
Excellent film properties: When the thickness of the prepared TaN barrier layer is ≤ 5nm, it can still prevent Cu diffusion, and the critical current density is>1 × 10 ⁶ a/cm ² .
As principais áreas de aplicação de alvos revestidos com tântalo incluem:
Fabricação de semicondutores: Os alvos revestidos com tantalum são comumente usados em camadas de barreira de interconexão de cobre na fabricação de circuitos integrados, especialmente em chips abaixo do nó de 10nm . A estrutura de bicamada TA/Tan pode estender o tempo de falha da eletromigração a 10 ⁷ horas .}
Coating óptico: alvos revestidos com tântalo podem ser usados para fabricar filmes finos com propriedades ópticas específicas, amplamente usadas em dispositivos, exibições e sensores ópticos .
Dispositivos médicos: devido à sua excelente biocompatibilidade, os alvos revestidos com tântalo são usados para fabricar implantes ortopédicos, como placas ósseas e próteses articulares, reduzindo as reações de rejeição humana .
Fabricação de ponta: Na fabricação de ponta, como revestimento de pulverização e revestimento óptico, a demanda por alvos revestidos com tântalo aumentou, e o tamanho do mercado global deve atingir 3,27 bilhões de yuan por 2026.
No futuro, com a otimização contínua dos processos de revestimento, os materiais alvo de tântalo expandirão ainda mais seus limites de aplicação na fabricação de novas energia e precisão, fornecendo suporte material mais confiável para o desenvolvimento tecnológico .
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